一種用于激光內(nèi)雕的能量補償方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN200810217075.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN101428521B | 公開(公告)日 | 2010-08-11 |
申請公布號 | CN101428521B | 申請公布日 | 2010-08-11 |
分類號 | B44B1/00(2006.01)I | 分類 | 裝飾藝術(shù); |
發(fā)明人 | 林金明;湯毅 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市泛友科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 深圳市港灣知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 深圳市泛友科技有限公司 |
地址 | 518000 廣東省深圳市羅湖區(qū)人民南路3005號深房廣場A座2601B | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明是關(guān)于一種用于激光內(nèi)雕的能量補償方法,包括以下步驟:提供設(shè)有Q開關(guān)的激光器;算出激光內(nèi)雕時的掃描中心點所需的能量值及離掃描中心最遠點所需的能量值;建立離掃描中心點的位移量與所需的能量值之間的位移量與所需能量的函數(shù)關(guān)系;根據(jù)激光器輸出脈沖的建立時間與所需輸出能量的關(guān)系,建立離掃描中心點的位移量與建立時間的函數(shù)關(guān)系;根據(jù)離掃描中心點的位移量與建立時間的函數(shù)關(guān)系,Q開關(guān)調(diào)Q對建立時間控制而對不同位置的掃描點進行能量補償;通過Q開關(guān)調(diào)Q改變調(diào)Q脈寬頻率以及脈寬,增加單脈沖能量,方便有效對不同掃描點的能量損失進行補償,使整個掃描范圍爆破點亮度達到一致,在整個掃描范圍雕刻出相對一致雕刻效果。 |
