光蝕刻用復合顯影液

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201310134759.4 申請日 -
公開（公告）號 CN103197516A 公開（公告）日 2013-07-10
申請公布號 CN103197516A 申請公布日 2013-07-10
分類號 G03F7/32(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 徐雅玲;黃源;尹云艦;羅江 申請（專利權(quán)）人 合肥格林達電子材料有限公司
代理機構(gòu) 杭州求是專利事務所有限公司 代理人 合肥格林達電子材料有限公司
地址 230012 安徽省合肥市瑤海區(qū)張洼路新站區(qū)工業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種光蝕刻用復合顯影液，主要應用于窄線寬的集成電路和高分辨率薄膜晶體管液晶顯示器領域，其組成比例為：包含重量百分比為0.1-25%TMAH和0.1-25%TEAH，其余為水；TMAH與TEAH的重量比在3-5:1。本發(fā)明復合顯影液可顯著改善顯影品質(zhì)，降低圖案坍塌風險，并能有效改善顯影穩(wěn)定性，提高顯影效率。