光蝕刻用復(fù)合顯影液
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201310134759.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN103197516A | 公開(kāi)(公告)日 | 2013-07-10 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103197516A | 申請(qǐng)公布日 | 2013-07-10 |
分類(lèi)號(hào) | G03F7/32(2006.01)I | 分類(lèi) | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 徐雅玲;黃源;尹云艦;羅江 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 合肥格林達(dá)電子材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州求是專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 合肥格林達(dá)電子材料有限公司 |
地址 | 230012 安徽省合肥市瑤海區(qū)張洼路新站區(qū)工業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種光蝕刻用復(fù)合顯影液,主要應(yīng)用于窄線寬的集成電路和高分辨率薄膜晶體管液晶顯示器領(lǐng)域,其組成比例為:包含重量百分比為0.1-25%TMAH和0.1-25%TEAH,其余為水;TMAH與TEAH的重量比在3-5:1。本發(fā)明復(fù)合顯影液可顯著改善顯影品質(zhì),降低圖案坍塌風(fēng)險(xiǎn),并能有效改善顯影穩(wěn)定性,提高顯影效率。 |
