一種光蝕刻顯影液的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201310134754.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN103197515A | 公開(公告)日 | 2013-07-10 |
申請公布號 | CN103197515A | 申請公布日 | 2013-07-10 |
分類號 | G03F7/32(2006.01)I | 分類 | 攝影術;電影術;利用了光波以外其他波的類似技術;電記錄術;全息攝影術〔4〕; |
發(fā)明人 | 徐雅玲;黃源;尹云艦 | 申請(專利權)人 | 合肥格林達電子材料有限公司 |
代理機構 | 杭州求是專利事務所有限公司 | 代理人 | 合肥格林達電子材料有限公司 |
地址 | 230012 安徽省合肥市瑤海區(qū)張洼路新站區(qū)工業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種光蝕刻顯影液的制備方法,本發(fā)明通過混合一定比例的三甲胺,三乙胺,和碳酸二甲酯,合成四甲基銨和三乙基單甲基銨碳酸單甲酯混合物中間體。然后經過水解,純化,電解工序得到四甲基氫氧化銨和三乙基單甲基氫氧化銨混合銨顯影液溶液。同時也可通過加入碳酸二乙酯得到更多種類烷基結構的烷基氫氧化銨水溶液。所得到的不同鏈長結構的烷基氫氧化銨混合銨顯影液具有生產價格低,工藝簡單,金屬含量低,適合細精度窄線寬要求的短波長光源工藝的顯影需求。 |
