一種用于微小光學(xué)部品的清洗托盤

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721686270.8 申請日 -
公開（公告）號 CN207787184U 公開（公告）日 2018-08-31
申請公布號 CN207787184U 申請公布日 2018-08-31
分類號 B08B3/12;B08B3/08;B08B13/00 分類 清潔;
發(fā)明人 楊曉華;張順華;潘帥;吳國強(qiáng);李文平;張梨清 申請（專利權(quán)）人 杭州秋光科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州五洲普華專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 杭州秋光科技有限公司
地址 310018 浙江省杭州市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)下沙21號大街600號2幢一樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種用于微小光學(xué)部品的清洗托盤，包括底盤和若干單元托盤，所述單元托盤放置在底盤上；所述底盤包括一水平面板和兩垂直側(cè)板；所述單元托盤包括至少一個用于放置部品的凹槽，所述凹槽底部穿孔，凹槽內(nèi)設(shè)有若干用于放置部品的臺階；所述單元托盤上還設(shè)有至少一個固定凸臺，所述托盤孔固定凸臺尺寸及數(shù)目均與固定孔相匹配，使單元托盤固定在底盤上；工作時，先將微小光學(xué)部品放入單元托盤的凹槽內(nèi)并通過臺階相應(yīng)限位，其中微小光學(xué)部品的待清洗面為各個豎直側(cè)面，再將單元托盤放置在底盤上，通過固定凸臺和固定孔進(jìn)行配合，將托盤整體放入超聲波清洗槽清洗，清洗后經(jīng)甩干機(jī)甩干完成清洗過程。