一種銥錫氧化物梯度復(fù)合涂層電極及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010676241.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111996515A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-11-27 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111996515A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-11-27 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C18/12(2006.01)I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 蔣玉思;肖方明;邵彩茹;曹洪楊 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 廣東省科學(xué)院 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州科粵專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 廣東省稀有金屬研究所 |
| 地址 | 510650廣東省廣州市天河區(qū)長(zhǎng)興路363號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種銥錫氧化物梯度復(fù)合涂層電極，由純鈦基體、連接層、過(guò)渡層和催化層組成；連接層化學(xué)組成為IrxSn0.9?xTi0.1O2，其中0＜x≤0.1，厚度為1～3μm；過(guò)渡層化學(xué)組成為IrySn1?yO2，其中0.1＜y≤0.2，厚度為1～4μm；催化層化學(xué)組成為IrzSn1?zO2，其中0.2＜z≤0.4，厚度為8～15μm。本發(fā)明的銥錫氧化物梯度復(fù)合涂層電極涂層結(jié)構(gòu)致密、表面裂縫少而小，通過(guò)連接層、過(guò)渡層使純鈦基體和催化層的相界面逐漸梯度變化，結(jié)合強(qiáng)度更高，化學(xué)穩(wěn)定性高和使用壽命長(zhǎng)，解決了現(xiàn)有技術(shù)電極穩(wěn)定性較差，使用壽命較短的問(wèn)題。?? |
