一種貴金屬氧化物電極表面污物的去除方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010676213.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111910189A 公開（公告）日 2020-11-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN111910189A 申請(qǐng)公布日 2020-11-10
分類號(hào) C23G1/10(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 蔣玉思;肖方明;邵彩茹;高遠(yuǎn) 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廣東省科學(xué)院
代理機(jī)構(gòu) 廣州科粵專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 廣東省稀有金屬研究所
地址 510650廣東省廣州市天河區(qū)長興路363號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種貴金屬氧化物電極表面污物的去除方法，該方法包括以下步驟：①用2～5Kg/cm2壓力的高壓水沖洗，靶距為20～50cm，時(shí)間為5～10min；②在包含還原劑和濕潤劑化學(xué)清洗液中，室溫下超聲化學(xué)清洗，③去離子水沖洗然后110～120℃下干燥5～10min。具有處理時(shí)間短、去除污物徹底、效率高和適應(yīng)性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，適應(yīng)工業(yè)化應(yīng)用要求，解決了現(xiàn)有技術(shù)存在的貴金屬氧化物電極表面污物去除不徹底，且去除時(shí)間較長的問題。??