電容缺陷檢測(cè)方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011544534.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112598646A | 公開(公告)日 | 2021-04-02 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112598646A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-02 |
分類號(hào) | G06T7/00(2017.01)I | 分類 | 計(jì)算;推算;計(jì)數(shù); |
發(fā)明人 | 朱焱;姜浩;王少軍;蔡權(quán)雄;牛昕宇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 山東產(chǎn)研鯤云人工智能研究院有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市華優(yōu)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 余薇 |
地址 | 250000山東省濟(jì)南市歷城區(qū)港興三路未來創(chuàng)業(yè)廣場(chǎng)3號(hào)樓1401 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公布了提供一種電容缺陷檢測(cè)方法,包括:獲取待檢測(cè)圖像,所述待檢測(cè)圖像包括待檢測(cè)電容;將所述待檢測(cè)圖像進(jìn)行隨機(jī)切塊,得到若干個(gè)圖像塊;將所述待檢測(cè)圖像與所述圖像塊輸入預(yù)先訓(xùn)練好的電容缺陷檢測(cè)模型中進(jìn)行缺陷進(jìn)行特征提取和特征解碼,得到電容缺陷檢測(cè)結(jié)果,所述預(yù)先訓(xùn)練好的電容缺陷檢測(cè)模型包括用于對(duì)所述待檢測(cè)圖像進(jìn)行第一特征提取操作的第一網(wǎng)絡(luò)、用于對(duì)所述圖像塊進(jìn)行第二特征提取操作的第二網(wǎng)絡(luò)以及用于特征解碼的解碼網(wǎng)絡(luò)。通過第一特征提取操作對(duì)待檢測(cè)圖像進(jìn)行全局特征提取,和通過第二特征提取操作對(duì)圖像塊進(jìn)行局部特征提取,可以從局部特征挖掘出電容缺陷的信息表征,從而提高了電容缺陷的檢測(cè)準(zhǔn)確度。?? |
