運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011406448.5 申請日 -
公開(公告)號 CN112387139A 公開(公告)日 2021-02-23
申請公布號 CN112387139A 申請公布日 2021-02-23
分類號 B01F3/04(2006.01)I; 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 周通;陳東達;巫旭;方道良;盧建波;沈李奇;趙重;周亞飛;王世榮;李紅利;李想 申請(專利權(quán))人 浙江科菲科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京艾皮專利代理有限公司 代理人 楊克
地址 314000浙江省嘉興市萬國路2970號2幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置,涉及金屬冶煉,旨在解決缺乏安全、高效、控制精確的問題,其技術(shù)方案要點是:一種運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置,包括射流氣液混合反應(yīng)器和旋流反應(yīng)槽,旋流反應(yīng)槽設(shè)置有篩網(wǎng)和擾流板,旋流反應(yīng)槽設(shè)置有PH計、ORP計、溫度計、熱電阻以及壓力傳感器,射流氣液混合反應(yīng)器安裝于旋流反應(yīng)槽的底部,射流氣液混合反應(yīng)器安裝有氣用單向閥和電磁流量計。本發(fā)明的一種運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置,有效解決了硫化氫有毒有害氣體的外泄,更高效的凈化鎳電解混酸體系中的銅離子,實現(xiàn)了安全、高效、控制精確的硫化氫深度除銅。??