能夠快速驟回的逆導(dǎo)型絕緣柵雙極型晶體管及其實現(xiàn)方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910199404.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111697067A | 公開(公告)日 | 2020-09-22 |
申請公布號 | CN111697067A | 申請公布日 | 2020-09-22 |
分類號 | H01L29/739(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 櫻井建彌;吳磊 | 申請(專利權(quán))人 | 上海睿驅(qū)微電子科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京知元同創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 上海新微技術(shù)研發(fā)中心有限公司;上海睿驅(qū)微電子科技有限公司 |
地址 | 201800上海市嘉定區(qū)城北路235號1號樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種能夠快速驟回的逆導(dǎo)型絕緣柵雙極型晶體管RC?IGBT及其實現(xiàn)方法,其包括:主區(qū)域,其包括非有源區(qū)、IGBT部分以及FWD部分,非有源區(qū)包括柵極流道與邊緣終端;主區(qū)域的每一塊中多個IGBT部分以及FWD部分間隔分布,各塊之間設(shè)置有第一柵極流道,各塊外圍設(shè)置有第二柵極流道,第一柵極流道與第二柵極流道貫通,第二柵極流道外圍包設(shè)有邊緣終端;非有源區(qū)產(chǎn)生電流密度大于預(yù)設(shè)閾值的電子流;主區(qū)域的下方設(shè)置有n?型漂移區(qū),n?型漂移區(qū)的下方設(shè)置n+型緩沖區(qū),n+型緩沖區(qū)的下方設(shè)置p+型集電極區(qū)及n+陰極區(qū),n+陰極和p+型集電極區(qū)域通過背面接觸短接,p+型集電極區(qū)的下方連接集電極。本發(fā)明能改善驟回性能,實現(xiàn)RC?IGBT的Vce快速恢復(fù)。?? |
