一種頂置燒嘴的煤氣化系統(tǒng)和氣化工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011049009.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN112111303A 公開(kāi)(公告)日 2020-12-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN112111303A 申請(qǐng)公布日 2020-12-22
分類號(hào) C10J3/48(2006.01)I 分類 石油、煤氣及煉焦工業(yè);含一氧化碳的工業(yè)氣體;燃料;潤(rùn)滑劑;泥煤;
發(fā)明人 單育兵;陳峰;徐江 申請(qǐng)(專利權(quán))人 科林能源技術(shù)(北京)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京信諾創(chuàng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 科林未來(lái)能源技術(shù)(北京)有限公司
地址 100004北京市朝陽(yáng)區(qū)新源南路6號(hào)京城大廈3807室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種頂置燒嘴的煤氣化系統(tǒng)和氣化工藝,所述煤氣化系統(tǒng)包括氣化爐和與供料系統(tǒng),所述氣化爐包括氣化室和設(shè)置在所述氣化室頂部燒嘴座上的燒嘴,所述氣化爐還包括設(shè)置氣化室下方的輻射廢鍋和設(shè)置輻射廢鍋下方的冷卻室,其中,所述氣化室與下方的輻射廢鍋之間通過(guò)下渣口連通,所述下渣口的外側(cè)還套設(shè)有補(bǔ)氣環(huán),所述補(bǔ)氣環(huán)的下端設(shè)有均勻分布的補(bǔ)氣孔,并且所述補(bǔ)氣環(huán)上還設(shè)有延伸至所述氣化爐外的補(bǔ)氣管,用于將所述補(bǔ)氣管導(dǎo)入的氣體通過(guò)補(bǔ)氣孔送入所述輻射廢鍋;本發(fā)明的煤氣化系統(tǒng)熱量回收效果好,并且便于提升負(fù)荷且運(yùn)行穩(wěn)定性高。??