一種紫外至近紅外波段的高效雙面吸波結(jié)構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121021351.2 申請日 -
公開（公告）號 CN215494202U 公開（公告）日 2022-01-11
申請公布號 CN215494202U 申請公布日 2022-01-11
分類號 G02B5/00（2006.01）I;H01Q17/00（2006.01）I;B82Y30/00（2011.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 周云;張恒;王欽華;方宗豹;陳林森;孟德宇;陸平英;陳華鋒;武榮風(fēng);詹智誠 申請（專利權(quán)）人 京東方光科技有限公司
代理機構(gòu) 蘇州市中南偉業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 吳竹慧
地址 215000江蘇省蘇州市吳中區(qū)石湖西路188號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種紫外至近紅外波段的高效雙面吸波結(jié)構(gòu)，包括：介質(zhì)層，所述介質(zhì)層的上下表面分別設(shè)有結(jié)構(gòu)參數(shù)相同的上蛾眼納米結(jié)構(gòu)陣列和下蛾眼納米結(jié)構(gòu)陣列，所述上蛾眼納米結(jié)構(gòu)的高度與底部寬度之比為A1,所述下蛾眼納米結(jié)構(gòu)的高度與底部寬度之比為A2,其中A2＝A1≥1，所述上蛾眼納米結(jié)構(gòu)陣列的周期為P1，所述下蛾眼納米結(jié)構(gòu)陣列的周期為P2，其中450nm≤P1＝P2≤650nm，所述上蛾眼納米結(jié)構(gòu)陣列的表面覆蓋有均勻厚度的上金屬層，所述上金屬層的外表面覆蓋有上覆蓋層，所述下蛾眼納米結(jié)構(gòu)陣列的表面覆蓋有均勻厚度的下金屬層，所述下金屬層的外表面覆蓋有下覆蓋層。本實用新型吸波結(jié)構(gòu)的帶寬較寬，光能利用率高，易于制作，便于大規(guī)模批量生產(chǎn)。