單晶硅片清洗裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021812409.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN213079309U 公開(kāi)(公告)日 2021-04-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN213079309U 申請(qǐng)公布日 2021-04-30
分類(lèi)號(hào) B08B3/02;B08B3/08;B08B1/04;B08B13/00 分類(lèi) 清潔;
發(fā)明人 向菊 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 深圳市羿烽科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 重慶百潤(rùn)洪知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 郝艷平
地址 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)西鄉(xiāng)街道桃源社區(qū)前進(jìn)二路134號(hào)錦聯(lián)大廈A708
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型屬于單晶硅片清洗技術(shù)領(lǐng)域,提供了單晶硅片清洗裝置,包括臺(tái)面傾斜設(shè)置的支撐臺(tái),所述支撐臺(tái)的中心位置開(kāi)設(shè)有滾動(dòng)槽,滾動(dòng)槽從高處到低處依次設(shè)置有放置工位、物理清洗工位、化學(xué)清洗工位和取出工位,所述放置工位上固定安裝有用于推動(dòng)單晶硅片的第一推動(dòng)機(jī)構(gòu),所述物理清洗工位設(shè)置有用于阻擋單晶硅片的第一伸縮機(jī)構(gòu)和用于頂出單晶硅片的第一頂出機(jī)構(gòu),所述化學(xué)清洗工位設(shè)置有用于阻擋單晶硅片的第二伸縮機(jī)構(gòu),所述取出工位設(shè)置有用于頂出單晶硅片的彈性頂出機(jī)構(gòu),所述支撐臺(tái)的兩側(cè)對(duì)稱(chēng)地安裝有第一側(cè)板和第二側(cè)板。本實(shí)用新型的單晶硅片清洗裝置,在不需要兩側(cè)翻面的情況下,一次性完成清洗,簡(jiǎn)化清洗過(guò)程。