一種觸控設(shè)備書(shū)寫(xiě)筆跡優(yōu)化方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911024417.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN110780800B 公開(kāi)(公告)日 2021-03-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN110780800B 申請(qǐng)公布日 2021-03-23
分類(lèi)號(hào) G06F3/0488(2013.01)I 分類(lèi) 計(jì)算;推算;計(jì)數(shù);
發(fā)明人 蔣超;張一馳;何智慧;陳榮碩;武俊峰;王鵬;楊宏亮 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 河北華發(fā)教育科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京科億知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 李興林
地址 063000河北省唐山市高新區(qū)創(chuàng)業(yè)中心D座
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種觸控設(shè)備書(shū)寫(xiě)筆跡優(yōu)化方法,包括以下步驟:獲取觸控接觸點(diǎn)添加到第二墨跡集合List2;判斷第二墨跡集合List2內(nèi)的接觸點(diǎn)個(gè)數(shù)是否為設(shè)定值n;如果第二墨跡集合List2內(nèi)的接觸點(diǎn)個(gè)數(shù)為n,對(duì)接觸點(diǎn)進(jìn)行n次循環(huán)遍歷,依次將接觸點(diǎn)添加到第一墨跡集合List1;定義第三墨跡集合List3,將第一墨跡集合List1內(nèi)的第一個(gè)接觸點(diǎn)賦給第三墨跡集合List3,并從第一個(gè)接觸點(diǎn)開(kāi)始,依次循序遍歷,每次循環(huán)遍歷取相鄰的4個(gè)接觸點(diǎn),取相鄰的4個(gè)接觸點(diǎn)的坐標(biāo)的中間坐標(biāo)點(diǎn),賦給第三墨跡集合List3。本發(fā)明提供的觸控設(shè)備書(shū)寫(xiě)筆跡優(yōu)化方法,能夠降低觸控設(shè)備書(shū)寫(xiě)筆跡中的鋸齒峰值,從而使得筆跡畫(huà)線(xiàn)更平滑。??