微波激發(fā)PVD鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201220724436.1 申請日 -
公開（公告）號 CN203128646U 公開（公告）日 2013-08-14
申請公布號 CN203128646U 申請公布日 2013-08-14
分類號 C23C14/28(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王奉瑾 申請（專利權(quán)）人 北京科普斯特自動化儀表有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 代理人 張全文
地址 528400 廣東省中山市火炬開發(fā)區(qū)興業(yè)路2號4樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種微波激發(fā)PVD鍍膜設(shè)備，包括殼體及靶材，還包括具有微波發(fā)射喇叭的微波發(fā)生器，該殼體具有密封的PVD腔體，PVD腔體內(nèi)安裝有靶材載舟，靶材載舟具有用于放置靶材的容置槽，待鍍膜材料位于容置槽上方且其需鍍膜的一面與之相對；微波發(fā)生器的本體安裝于PVD腔體外，其微波發(fā)射喇叭設(shè)于PVD腔體內(nèi)；PVD腔體內(nèi)橫設(shè)有用于屏蔽微波的金屬網(wǎng)，該金屬網(wǎng)位于靶材載舟與所述待鍍膜材料之間。PVD腔體內(nèi)安裝有用于驅(qū)動靶材載舟沿待鍍膜材料表面平行移動的移動裝置。本實(shí)用新型加熱效率高、鍍膜效率高、容易控制加熱溫度、不易損壞待鍍膜材料、制造成本低廉，本實(shí)用新型所鍍的膜厚均勻、鍍膜表面光滑。