一種壓裂返排液凈化處理系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110539305.X 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN113264630B 公開(公告)日 2022-06-24
申請(qǐng)公布號(hào) CN113264630B 申請(qǐng)公布日 2022-06-24
分類號(hào) C02F9/12;C02F103/10;C02F101/30;C02F101/20 分類 水、廢水、污水或污泥的處理;
發(fā)明人 柳建新;王果;陳舒;向澳洲;陳金建;李景澤 申請(qǐng)(專利權(quán))人 長(zhǎng)江大學(xué)
代理機(jī)構(gòu) 武漢智嘉聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 易賢衛(wèi)
地址 430100 湖北省武漢市蔡甸區(qū)蔡甸街大學(xué)路111號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種壓裂返排液凈化處理系統(tǒng),包括光降解模塊、磁分離模塊及離子分離模塊;光降解模塊用于得到初級(jí)凈化壓裂返排液;磁分離模塊包括磁粉混合機(jī)構(gòu)及磁粉分離機(jī)構(gòu),磁粉混合機(jī)構(gòu)用于將初級(jí)凈化壓裂返排液與磁粉混勻得到吸附有固體懸浮物的磁粉和次級(jí)凈化壓裂返排液;磁粉分離機(jī)構(gòu)用于將吸附有固體懸浮物的磁粉從次級(jí)凈化壓裂返排液中分離;離子分離模塊用于去除次級(jí)凈化壓裂返排液中的重金屬陽(yáng)離子。本發(fā)明的有益效果是:通過(guò)光降解模塊去除壓裂返排液中的細(xì)菌、有機(jī)質(zhì)及殘余油滴,通過(guò)磁分離模塊去除壓裂返排液中的固體懸浮物,通過(guò)離子分離模塊去除壓裂返排液中的重金屬陽(yáng)離子,從而通過(guò)本系統(tǒng)可全面去除壓裂返排液中的污染物。