基于納米測量與傾斜掃描白光干涉微結構測試系統(tǒng)及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201010274207.X 申請日 -
公開（公告）號 CN101975559B 公開（公告）日 2012-01-11
申請公布號 CN101975559B 申請公布日 2012-01-11
分類號 G01B11/24(2006.01)I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 郭彤;馬龍;陳津平;傅星;胡小唐 申請（專利權）人 天津微納制造技術有限公司
代理機構 天津市北洋有限責任專利代理事務所 代理人 杜文茹
地址 300000 天津市濱海新區(qū)經濟技開發(fā)區(qū)第四大街80號A2-316
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種基于納米測量與傾斜掃描白光干涉微結構測試系統(tǒng)及方法，系統(tǒng)有圖像采集卡，數字CCD攝像機，顯微光學系統(tǒng)，干涉物鏡，可調傾斜工作臺，PC機，納米測量機，工作臺傾斜控制器，通過光纖向顯微光學系統(tǒng)提供光源的白光光源，PC機還分別連接圖像采集卡和工作臺傾斜控制器。方法是在納米測量機的工作平臺上固定可調傾斜工作臺，將被測樣品至于其上，由PC機控制納米測量機帶動可調傾斜工作臺沿其傾斜角度完成掃描，CCD數字攝像機采集圖像并由圖像采集卡傳至PC機進行后續(xù)處理；對于采集的圖像進行追蹤并進行干涉信號的提取后，進行零級干涉條紋的位置進行定位，最終確定表面形貌。本發(fā)明為無損的檢測，消除了光源熱效應的影響，可以實現(xiàn)0.1nm的位移分辨力。