一種宏微復(fù)合恒壓拋光裝置及方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010145038.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111230654B | 公開(公告)日 | 2021-10-01 |
申請公布號 | CN111230654B | 申請公布日 | 2021-10-01 |
分類號 | B24B13/00(2006.01)I;B24B49/16(2006.01)I;B24B41/00(2006.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 朱相優(yōu);張嘉榮;鄧建南;卓少木 | 申請(專利權(quán))人 | 廣州精點科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京化育知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 尹均利 |
地址 | 510006廣東省廣州市番禺區(qū)小谷圍街大學城廣東工業(yè)大學3號、5號、6號樓首層自編之B124之1號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種宏微復(fù)合恒壓拋光裝置及方法,該方法包括以下步驟:利用杠桿結(jié)構(gòu)、杠桿兩端的配重以及杠桿的力臂變化調(diào)節(jié)拋光壓力大??;拋光設(shè)備對旋轉(zhuǎn)對稱非球面模仁表面進行拋光加工時,利用左右移動軸和旋轉(zhuǎn)擺動軸控制拋光位置,利用空間上的升降伺服軸控制模仁拋光點在空間上豎直方向上的位置不變,結(jié)合杠桿原理從宏觀上保證拋光壓力的穩(wěn)定;拋光頭上安裝有壓力傳感器和電磁力裝置,根據(jù)拋光壓力變化控制電磁力裝置從微觀上調(diào)整補償拋光壓力的變化,閉環(huán)控制保證拋光過程的恒壓。本發(fā)明通過宏微復(fù)合的方法控制拋光壓力的恒定,具有更高的控制精度。 |
