一種低能耗鏈式傳輸真空刻蝕和鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201820141072.1 申請日 -
公開（公告）號 CN207896066U 公開（公告）日 2018-09-21
申請公布號 CN207896066U 申請公布日 2018-09-21
分類號 H01L21/67 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 上官泉元;鄒開峰;胡勝堯;莊正軍;候岳明;朱廣東 申請（專利權(quán)）人 常州比太黑硅科技有限公司
代理機構(gòu) 北京集智東方知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 常州比太黑硅科技有限公司
地址 213164 江蘇省常州市武進高新區(qū)鳳翔路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種低能耗鏈式傳輸真空刻蝕和鍍膜設(shè)備，包括按工藝順序依次設(shè)置的裝載腔、工藝腔及卸載腔，工藝腔通過泵管路對應(yīng)設(shè)置有工藝泵；裝載腔與卸載腔通過泵管路連接至同一臺真空泵，通過控制載板進出裝載腔和卸載腔的節(jié)拍和流程并充分利用真空泵工作間歇時間以實現(xiàn)一個真空泵同時服務(wù)于裝載腔和卸載腔；且當(dāng)設(shè)備由于故障出現(xiàn)裝載腔和卸載腔節(jié)拍干涉時，通過程序控制卸載腔優(yōu)先工作以保證設(shè)備工藝順暢，從而使設(shè)備恢復(fù)到正常的生產(chǎn)節(jié)拍。通過一臺真空泵協(xié)調(diào)控制裝載腔及卸載腔，節(jié)省一臺真空泵的制造費用和硬件控制器件投入，且大大減少裝載腔和卸載腔回填氣體的消耗，并有效減少設(shè)備占地空間及使用方成本。