一種碳化硅晶體生長裝置及碳化硅晶體生長方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210102307.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114481293A | 公開(公告)日 | 2022-05-13 |
申請公布號 | CN114481293A | 申請公布日 | 2022-05-13 |
分類號 | C30B15/00(2006.01)I;C30B15/20(2006.01)I;C30B15/10(2006.01)I;C30B15/14(2006.01)I;C30B27/02(2006.01)I;C30B29/36(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 郭超;母鳳文 | 申請(專利權(quán))人 | 北京青禾晶元半導(dǎo)體科技有限責(zé)任公司 |
代理機構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 100083北京市海淀區(qū)花園北路25號小關(guān)(廠南區(qū))4號樓1層146 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種碳化硅晶體生長裝置及碳化硅晶體生長方法,該碳化硅晶體生長裝置包括殼體、石墨坩堝、籽晶組件和加熱件。殼體限定出容納腔,石墨坩堝設(shè)在容納腔內(nèi),石墨坩堝用于容納助溶劑溶液,籽晶組件沿豎直方向可升降配合在殼體上,籽晶組件的一端伸入石墨坩堝內(nèi),籽晶組件用于承載生長的碳化硅晶體,加熱件位于石墨坩堝的徑向外側(cè):加熱件和石墨坩堝中的至少一個沿豎直方向可升降。該碳化硅晶體生長裝置,在生長過程中能夠維持助溶劑溶液的液面相對于加熱件的位置不變,維持助溶劑液面下方的溫度梯度恒定,從而增加結(jié)晶的穩(wěn)定性和一致性。 |
