一種碳化硅復(fù)合基板的制造方法及制造裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210551153.X | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN114717651A | 公開(公告)日 | 2022-07-08 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114717651A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-08 |
分類號(hào) | C30B23/00(2006.01)I;C30B29/36(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 郭超;母鳳文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 北京青禾晶元半導(dǎo)體科技有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 100083北京市海淀區(qū)花園北路25號(hào)小關(guān)(廠南區(qū))4號(hào)樓1層146 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種碳化硅復(fù)合基板的制造方法及制造裝置,所述制造方法包括如下步驟:在保護(hù)性氣氛中,使用含硅溶液交替生長單晶層與多晶層;切片,得到包括單晶層與多晶層的復(fù)合基板,復(fù)合基板中單晶層的數(shù)量與多晶層的數(shù)量相等;所述制造裝置適用于所述制造方法,通過本發(fā)明提供的制造方法制備碳化硅復(fù)合基板,由于采用單晶層與多晶層交替生長的方式,生長至一定厚度的時(shí)間遠(yuǎn)小于生長單一的單晶碳化硅,且通過切片即可得到復(fù)合基板,提高了碳化硅復(fù)合基板的制造效率,降低了碳化硅復(fù)合基板的生產(chǎn)成本。 |
