一種真空勻料填料蒸發(fā)設(shè)備及其使用方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111235292.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113981378A 公開（公告）日 2022-01-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN113981378A 申請(qǐng)公布日 2022-01-28
分類號(hào) C23C14/24（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 彭壽;潘錦功;羅潤(rùn);周冬;趙雷;樊建平;青漢森;東冬冬;王磊;余柯良;蔣猛;傅干華 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 成都中建材光電材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都市集智匯華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 謝模杰;涂興銳
地址 610000四川省成都市雙流區(qū)西航港街道空港二路558號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種真空勻料填料蒸發(fā)設(shè)備，包括填料倉(cāng)、沉積倉(cāng)和計(jì)料機(jī)構(gòu)；所述填料倉(cāng)設(shè)有抽空閥，所述填料倉(cāng)內(nèi)設(shè)有儲(chǔ)料箱；所述沉積倉(cāng)設(shè)置于填料倉(cāng)的下方，并與填料倉(cāng)連通；所述計(jì)料機(jī)構(gòu)位于調(diào)料倉(cāng)內(nèi)，所述計(jì)料機(jī)構(gòu)可活動(dòng)的設(shè)置在填料倉(cāng)或沉積倉(cāng)內(nèi)；所述計(jì)料機(jī)構(gòu)和儲(chǔ)料箱之間設(shè)有第一閥門。本發(fā)明能夠在原料用盡后，可實(shí)現(xiàn)密閉式填料，避免設(shè)備內(nèi)器件在空氣中的長(zhǎng)時(shí)間暴露，大幅降低烘烤和抽真空時(shí)間，相應(yīng)的減少整個(gè)填料周期，同時(shí)提高設(shè)備的稼動(dòng)率，提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)量。本發(fā)明還公開了一種應(yīng)用于上述設(shè)備的使用方法。