一種電解銅箔滲透點(diǎn)和針孔的檢測(cè)裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811034331.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN109115794A | 公開（公告）日 | 2019-01-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN109115794A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-01-01 |
| 分類號(hào) | G01N21/91;G01N21/01;B05B13/02;B05B13/04;B05B14/00 | 分類 | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 趙瑋 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 蘇州繡創(chuàng)投資發(fā)展有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 045100 山西省太原市迎澤西大街79號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種電解銅箔滲透點(diǎn)和針孔的檢測(cè)裝置，包括：霧化系統(tǒng)（1）、銅箔（2）；所述霧化系統(tǒng)（1）包括：霧化系統(tǒng)框架、頂部導(dǎo)向輥（1?1）、頂部驅(qū)動(dòng)輥（1?2），殼體（1?5）；銅箔經(jīng)過頂部導(dǎo)向輥（1?1）與頂部驅(qū)動(dòng)輥（1?2），由水平運(yùn)行轉(zhuǎn)為豎向運(yùn)行；還包括：第一移動(dòng)噴霧系統(tǒng)（1?6）、第二移動(dòng)噴霧系統(tǒng)（1?7）；通過第一移動(dòng)噴霧系統(tǒng)（1?6）與第二移動(dòng)噴霧系統(tǒng)（1?7）向銅箔的光面噴涂稀硫酸溶液。采用本發(fā)明的裝置，可以實(shí)現(xiàn)銅箔滲透點(diǎn)和針孔檢測(cè)中自動(dòng)涂布整幅的稀硫酸。 |
