一種寬譜銦鎵砷焦平面的結(jié)構(gòu)及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210123379.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114551618A | 公開(公告)日 | 2022-05-27 |
申請公布號 | CN114551618A | 申請公布日 | 2022-05-27 |
分類號 | H01L31/0304(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/101(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;G01J3/28(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李雪;劉雅歌;馬英杰;顧溢;李淘 | 申請(專利權(quán))人 | 中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海滬慧律師事務(wù)所 | 代理人 | - |
地址 | 200083上海市虹口區(qū)玉田路500號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種寬譜銦鎵砷焦平面的結(jié)構(gòu)及其制備方法,寬譜銦鎵砷焦平面的基底為InP,自基底起依次有InP腐蝕犧牲層,周期性薄層低維量子點(diǎn)層,腐蝕截止層,In0.83Ga0.17As吸收層和重?fù)诫s接觸層;還公開了一種制備所述探測器的方法,主要步驟為:1)產(chǎn)生混成結(jié)構(gòu)In0.83Ga0.17As焦平面探測器;2)機(jī)械研磨去除InP基底層;3)化學(xué)腐蝕去除犧牲層;4)干法等離子刻蝕去除部分截止層;本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于實(shí)現(xiàn)單片響應(yīng)范圍覆蓋400?2600nm的銦鎵砷焦平面探測器,可簡化各類高光譜成像系統(tǒng)的光路,降低功耗、體積、重量,提升探測敏感度。 |
