一種平面光波導(dǎo)的制作方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201410369687.6 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN104101950B 公開(kāi)(公告)日 2017-08-25
申請(qǐng)公布號(hào) CN104101950B 申請(qǐng)公布日 2017-08-25
分類(lèi)號(hào) G02B6/136(2006.01)I 分類(lèi) 光學(xué);
發(fā)明人 馮春蓉;向舟翊;李朝陽(yáng) 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 四川飛陽(yáng)科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王寶筠
地址 610209 四川省成都市雙流縣西南航空港經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)長(zhǎng)城路一段185號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種平面光波導(dǎo)的制作方法,包括:在襯底表面形成芯層;在所述芯層表面形成金屬層;在所述金屬層表面形成光刻膠層,并圖案化所述光刻膠層;將所述襯底水平放置在刻蝕槽內(nèi),以圖案化后的光刻膠層為掩膜對(duì)所述金屬層進(jìn)行刻蝕,其中,所述襯底設(shè)置有所述金屬層的表面朝上放置,所述金屬層浸沒(méi)在所述刻蝕槽內(nèi)的金屬刻蝕試劑內(nèi);判斷對(duì)所述金屬層的刻蝕是否完成,當(dāng)所述刻蝕完成后,去除圖案化后的光刻膠層,以刻蝕后的金屬層為掩膜對(duì)所述芯層進(jìn)行刻蝕,圖案化所述芯層,形成預(yù)設(shè)結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)芯層;去除刻蝕后的金屬層,在所述波導(dǎo)芯層表面形成保護(hù)層。所述制作方法降低了平面光波導(dǎo)的制作成本。