一種平面光波導(dǎo)的濕法刻蝕方法及制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510093910.3 申請日 -
公開（公告）號 CN104635299B 公開（公告）日 2018-08-21
申請公布號 CN104635299B 申請公布日 2018-08-21
分類號 G02B6/126;C23F1/02 分類 光學;
發(fā)明人 向舟翊;李朝陽 申請（專利權(quán)）人 四川飛陽科技有限公司
代理機構(gòu) 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王寶筠
地址 610209 四川省成都市雙流縣西南航空港經(jīng)濟開發(fā)區(qū)長城路一段185號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種平面光波導(dǎo)的濕法刻蝕方法，用于對襯底表面的金屬層進行快速刻蝕，所述濕法刻蝕方法包括：在金屬層表面形成圖案化的光刻膠層，作為第一掩膜層；將所述襯底具有金屬的一面向上水平放置并浸沒于刻蝕液中，對所述金屬層進行刻蝕，形成圖案化的金屬層，在刻蝕過程中，使得所述刻蝕液與所述襯底相對運動；刻蝕完成后去除所述第一掩膜層。采用所述濕法刻蝕方法對所述襯底進行刻蝕，成本低且工作效率高。本申請還公開了一種平面光波導(dǎo)的制作方法，利用此方法能使制作光波導(dǎo)的效率提高，成本降低。