一種適用于不均勻破碎巖體的新異的光面爆破方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110823987.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113405417A 公開(kāi)（公告）日 2021-09-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN113405417A 申請(qǐng)公布日 2021-09-17
分類號(hào) F42D1/00（2006.01）I;F42D3/04（2006.01）I 分類 彈藥；爆破;
發(fā)明人 張丹;張建明;劉洪;李濤;左興健;冉鵬成;譚皓月;王芳;繆月華 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 四川公路橋梁建設(shè)集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都中亞專利代理有限公司 代理人 王崗
地址 610041四川省成都市高新區(qū)九興大道12號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種適用于不均勻破碎巖體的新異的光面爆破方法，針對(duì)使用傳統(tǒng)的直線型光爆孔布孔方式，孔內(nèi)同一炸藥分布特征，會(huì)使圍巖表面出現(xiàn)凹凸不平問(wèn)題，破損工程；依據(jù)抗滑樁與終了境界面空間關(guān)系，圍巖巖層、巖性或破碎、激勵(lì)裂隙分布特征或構(gòu)筑物強(qiáng)度或破損空間分布特征，調(diào)整設(shè)計(jì)輪廓直線布孔，為一類似正弦曲線上布置光爆孔，孔內(nèi)有針對(duì)性巖體破碎程度、軟弱程度布藥裝藥結(jié)構(gòu)特征，從而提高光爆面的平整度。本專利具有如下優(yōu)點(diǎn)：（1）減少每次爆破危害正常有效抵抗線長(zhǎng)度，并降低震動(dòng)；（2）光面爆破形成的光爆面相對(duì)平整，有利于提高支擋結(jié)構(gòu)的安全性和美觀性；（3）減少爆渣量并減少超挖，使爆破后的巖體穩(wěn)定性更好，減小支護(hù)成本；（4）避免工人直接接觸危巖，提高工程的安全性和施工效率。