一種用于存儲器硬盤的CMP漿料及使用該漿料的拋光方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610247000.0 申請日 -
公開（公告）號 CN107304331A 公開（公告）日 2017-10-31
申請公布號 CN107304331A 申請公布日 2017-10-31
分類號 C09G1/02(2006.01)I;B24B1/00(2006.01)I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應用;
發(fā)明人 仲躋和 申請（專利權）人 江蘇天恒納米科技股份有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 226601 江蘇省南通市城東鎮(zhèn)東海大道(東)18號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于存儲器硬盤的CMP漿料及使用該漿料的拋光方法，包括CMP漿料組合物和研磨料，CMP漿料組合物包括含有羥基、羧基或其兩者的化合物、輔助添加劑以及去離子水，研磨料為二氧化硅溶膠，其中將二氧化硅溶膠加入CMP漿料組合物中并加入去離子水稀釋，直至CMP漿料體系的粘度小于10(mPa.s)，pH值在9.0?10.0之間波動。本發(fā)明在CMP漿料體系中增加輔助添加劑，用以提高CMP漿料的研磨拋光效果，且研磨料采用堿性球形納米粒子，其硬度小，能夠解決傳統(tǒng)CMP漿料對硬盤基片的劃傷問題，且穩(wěn)定性高，對設備要求低，使得該CMP漿料的拋光選擇性高，可操作性強，可廣泛用于存儲器硬盤的拋光領域。