一種微透鏡陣列光柵及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110919289.7 申請日 -
公開（公告）號 CN113740942A 公開（公告）日 2021-12-03
申請公布號 CN113740942A 申請公布日 2021-12-03
分類號 G02B3/00（2006.01）I;G02B5/18（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 金建;邸思;王旭迪;孫學(xué)通 申請（專利權(quán)）人 廣州先進技術(shù)研究所
代理機構(gòu) 廣州容大知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 劉新年
地址 511458廣東省廣州市南沙區(qū)海濱路1121號A棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種微透鏡陣列光柵及其制備方法和應(yīng)用。所述微透鏡陣列光柵的制備方法為采用具有氣孔陣列的微流控芯片，利用水壓將PDMS光柵變形為微透鏡陣列光柵。本發(fā)明采用微流控技術(shù)制作微透鏡陣列光柵上，解決了傳統(tǒng)工藝制作微透鏡陣列光柵時存在的集成度不高以及工藝不可控等問題。本制備的微透鏡陣列光柵元件，組合了聚焦和色散兩種功能，相比傳統(tǒng)元件，降低了元件的尺寸和成本；微透鏡陣列光柵可以在同一個基片上集成不同尺寸的微透鏡，使其同時具有不同的分光功能，提高了元件的集成度。