一種絲裂霉素中Cd、Pb、As、Hg、Co、V、Ni殘留量的檢測方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202011439491.1 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112763479A | 公開（公告）日 | 2021-05-07 |
| 申請公布號 | CN112763479A | 申請公布日 | 2021-05-07 |
| 分類號 | G01N1/44(2006.01)I;G01N1/38(2006.01)I;G01N21/73(2006.01)I | 分類 | 測量；測試; |
| 發(fā)明人 | 周燕;姜吳斌 | 申請（專利權(quán)）人 | 無錫福祈制藥有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京商專潤文專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 蘇霞 |
| 地址 | 214000江蘇省無錫市錫山區(qū)蓉洋一路2號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種絲裂霉素中Cd、Pb、As、Hg、Co、V、Ni殘留量的檢測方法，包括以下步驟：步驟(1)、線性儲備液和線性溶液的制備；步驟(2)、取絲裂霉素適量于聚四氟乙烯罐中，加硝酸進(jìn)行消解，再加入硝酸溶液溶解制成供試品溶液；步驟(3)、取絲裂霉素適量于聚四氟乙烯罐中，加硝酸進(jìn)行消解，再加入線性儲備液，最后以硝酸溶液溶解制成加標(biāo)供試品溶液；步驟(4)、取線性溶液在電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀中進(jìn)行測定，記錄譜圖，進(jìn)行線性回歸，獲得回歸方程；步驟(5)、根據(jù)上述步驟(2)、(3)依次對供試品溶液、加標(biāo)供試品溶液進(jìn)行測定。?? |
