一種降低LETID的P型晶體硅太陽能電池的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010606899.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111916528B | 公開(公告)日 | 2022-06-24 |
申請公布號 | CN111916528B | 申請公布日 | 2022-06-24 |
分類號 | H01L31/18;H01L31/0288;H01L31/0216 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 楊智;魏青竹;倪志春;錢洪強;連維飛;張樹德;趙保星 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州騰暉光伏技術(shù)有限公司 |
代理機構(gòu) | 蘇州華博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 楊敏 |
地址 | 215542 江蘇省蘇州市常熟市沙家浜鎮(zhèn)常昆工業(yè)園區(qū)騰暉路1號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種降低LETID的P型晶體硅太陽能電池的制備方法,包括對P型單晶硅片的正面制絨,和形成磷摻雜面,制備選擇性發(fā)射極;且述P型單晶硅片采用背靠背的方式放置,在背面沉積AlOx層;且在所述正面和背面沉積SiNx層;然后對所述P型單晶硅片進行退火工藝。本發(fā)明通過在在SiNx鍍膜后,增加退火步驟,調(diào)節(jié)晶體硅電池內(nèi)氫濃度,降低由過量氫元素造成的的熱輔助光致衰減,進而提高了晶體硅電池封裝組件的輸出功率。 |
