一種鈍化接觸柵線的太陽能電池結(jié)構(gòu)及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011644553.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114695573A | 公開(公告)日 | 2022-07-01 |
申請公布號 | CN114695573A | 申請公布日 | 2022-07-01 |
分類號 | H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/068(2012.01)I;H01L31/20(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 趙保星;連維飛;張樹德;符欣;魏青竹;倪志春 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州騰暉光伏技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 蘇州華博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 215500江蘇省蘇州市常熟市沙家浜鎮(zhèn)常昆工業(yè)園區(qū)騰暉路1號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及了一種鈍化接觸柵線的太陽能電池結(jié)構(gòu)及其制備方法,鈍化接觸柵線的太陽能電池結(jié)構(gòu),包括:p型硅基底層;正面電極,設(shè)于所述p型硅基底層上表面的柵線區(qū)域;鈍化隧穿結(jié)構(gòu)層,設(shè)于所述p型硅基底層、所述正面電極兩者之間,所述鈍化隧穿結(jié)構(gòu)層包括由下至上依次堆疊設(shè)置的氧化硅隧穿層與摻雜多晶硅層;以及正面電池結(jié)構(gòu),包括:n++擴(kuò)散層,所述n++擴(kuò)散層堆疊設(shè)置于所述p型硅基底層上、且位于所述p型硅基底層上表面的非柵線區(qū)域。通過上述設(shè)置,可解決目前poly?finger技術(shù)制備工藝難度大、poly?finger結(jié)構(gòu)的隧穿接觸效果較差導(dǎo)致電池性能較差的問題。 |
