一種氣體滲氮用管式爐裝置系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110766166.4 申請日 -
公開（公告）號 CN113481466A 公開（公告）日 2021-10-08
申請公布號 CN113481466A 申請公布日 2021-10-08
分類號 C23C8/24（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張健;湯文明;秦小龍;繆春輝;張潔;王若民;陳國宏 申請（專利權(quán)）人 安徽新力電業(yè)科技咨詢有限責任公司
代理機構(gòu) 合肥云道爾知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 司楠
地址 230000安徽省合肥市經(jīng)開區(qū)九龍路168號7棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種氣體滲氮用管式爐裝置系統(tǒng)，包括管式爐、中轉(zhuǎn)儲氣罐、通氣管道總成、中控系統(tǒng)，管式爐內(nèi)底部自下而上依次設(shè)置有噴嘴安裝支架、網(wǎng)狀加熱元件一、導(dǎo)軌支架、載物架。通氣管道總成包括進氣管、儲氣罐出氣管、排氣管、泄氣管、回氣管。進氣管一端連接氣源，另一端貫通至中轉(zhuǎn)儲氣罐內(nèi)；儲氣罐出氣管一端貫穿至中轉(zhuǎn)儲氣罐內(nèi)，另一端貫穿管式爐底部；排氣管下端安裝在管式爐頂端，泄氣管、回氣管一端均連接在排氣管上，回氣管另一端貫通至中轉(zhuǎn)儲氣罐內(nèi)。本發(fā)明氣體滲氮用管式爐裝置系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)緊湊，管式爐的尾氣和余熱利用率高，爐內(nèi)溫度控制方便，均勻性好，爐內(nèi)氣體流通效率高，滲氮氣氛控制方便，滲氮效果好，質(zhì)量穩(wěn)定。