快速完成曝光時(shí)面板與掩膜精確對(duì)位的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210429672.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN103792800A 公開（公告）日 2014-05-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN103792800A 申請(qǐng)公布日 2014-05-14
分類號(hào) G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01J9/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 顧玉梅 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 南京華顯高科有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京天華專利代理有限責(zé)任公司 代理人 夏平;瞿網(wǎng)蘭
地址 210061 江蘇省南京市高新開發(fā)區(qū)商務(wù)辦公樓413室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種快速完成曝光時(shí)面板與掩膜精確對(duì)位的方法，它利用感光干膜實(shí)現(xiàn)面板與掩膜精確對(duì)位的方法，快速完成精確對(duì)位。它可以廣泛用于PDP面板上光敏介質(zhì)層的制備工藝中。