ITO表面化學(xué)鍍鎳鍍金前表面清潔的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210434747.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103789751A 公開(kāi)（公告）日 2014-05-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN103789751A 申請(qǐng)公布日 2014-05-14
分類號(hào) C23C18/18(2006.01)I;C03C15/00(2006.01)I;C03C17/36(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 花進(jìn);張雄;吳燕妮 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 南京華顯高科有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京天華專利代理有限責(zé)任公司 代理人 夏平;瞿網(wǎng)蘭
地址 210061 江蘇省南京市高新開(kāi)發(fā)區(qū)商務(wù)辦公樓413室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種在ITO表面化學(xué)鍍鎳鍍金前表面清潔的方法，其特征是將氟化銨、氟化氫銨及緩沖劑按一定比例混溶于去離子水中配成清潔溶液，基片用夾具裝夾后浸沒(méi)于清潔溶液中，根據(jù)基片表面污染程度選擇合適的浸沒(méi)時(shí)間，徹底去除ITO表面引線間玻璃上的污染物并使ITO剛剛露出新鮮的表面。這樣清潔處理后再在ITO表面進(jìn)行鎳層和金層沉積時(shí)，鎳層和金層只沉積于ITO表面，而在其它地方無(wú)法沉積，這就消除了因基片表面污染而造成的產(chǎn)品缺陷問(wèn)題，大大提高了采用化學(xué)鍍鎳鍍金方法制造Sensor產(chǎn)品的良率。同時(shí)因鎳層和金層是沉積于新鮮的ITO表面，而非臟或異物表面，這樣鎳層和金層與ITO之間的結(jié)合力非常強(qiáng)，不會(huì)產(chǎn)生鎳層和金層與ITO之間脫落問(wèn)題，產(chǎn)品使用的耐久性可以得到保證。