一種靜電吸盤及晶圓測試方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010194361.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113496934A | 公開(公告)日 | 2021-10-12 |
申請公布號 | CN113496934A | 申請公布日 | 2021-10-12 |
分類號 | H01L21/683(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 邱海斌;嚴大生;蔡育源 | 申請(專利權(quán))人 | 芯恩(青島)集成電路有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京漢之知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 高園園 |
地址 | 266555山東省青島市黃島區(qū)中德生態(tài)園團結(jié)路2877號ICIC辦公樓4樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種靜電吸盤及晶圓測試方法,包括:基板,用于承載待吸附物;絕緣層,設置在所述基板的上方,通過靜電吸附所述待吸附物;導電部,導電部設置在所述絕緣層中,與所述待吸附物的背面的至少部分區(qū)域接觸;其中所述基板和所述絕緣層包括同心設置的可升降的多個部分。本發(fā)明所述的靜電吸盤可以適用于不同規(guī)格的晶圓測試,不僅可以降低晶圓的破片率,同時能夠提高機臺的利用率。 |
