改善電鍍薄膜均勻性的裝置及方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010195397.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113493920A | 公開（公告）日 | 2021-10-12 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113493920A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-12 |
| 分類號(hào) | C25D5/00（2006.01）I;C25D7/12（2006.01）I;C25D17/00（2006.01）I | 分類 | 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 孟昭生;薛亞楠;賈玉杰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 芯恩（青島）集成電路有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京漢之知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 高園園 |
| 地址 | 266555山東省青島市黃島區(qū)中德生態(tài)園團(tuán)結(jié)路2877號(hào)ICIC辦公樓4樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一種改善電鍍薄膜均勻性的裝置及方法，所述裝置包括：外腔體；在所述外腔體內(nèi)部的上部設(shè)有陰極，所述陰極連接晶圓；所述晶圓的上方設(shè)有旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)發(fā)生單元，所述旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)發(fā)生單元用于產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)；在所述外腔體內(nèi)部的底部設(shè)有陽極室，所述陽極室中設(shè)有陽極，所述陽極室的頂部設(shè)有擴(kuò)散膜；所述方法包括步驟：形成旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)；電鍍液中的目標(biāo)離子在電鍍過程中受到所述旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)的作用、在晶圓表面形成螺旋電流；所述設(shè)備包括所述的裝置和/或用于實(shí)現(xiàn)所述方法的裝置。它旨在改善電鍍過程中導(dǎo)致的晶片中心與邊緣處薄膜均勻性不同的技術(shù)問題。 |
