光掩模清洗機(jī)的液體分配盤

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200820034063.9 申請日 -
公開（公告）號 CN201175710Y 公開（公告）日 2009-01-07
申請公布號 CN201175710Y 申請公布日 2009-01-07
分類號 B08B3/02(2006.01) 分類 清潔;
發(fā)明人 徐飛;金海濤 申請（專利權(quán)）人 常州瑞科微電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 常州市維益專利事務(wù)所 代理人 賈海芬
地址 213022江蘇省常州市新北區(qū)漢江路376號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種光掩模清洗機(jī)的液體分配盤，屬于光掩模清洗機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。主要包括盤體、貫穿盤體的安裝孔以及設(shè)置在盤體內(nèi)兩個(gè)獨(dú)立的第一液體流道和第二液體流道，所述的第一液體流道由第一環(huán)形道和與第一環(huán)形道相通的進(jìn)液流道及出液流道構(gòu)成，六個(gè)以上的出液流道沿盤體徑向分布，且該出液流道的流道出口位于盤體徑向的外周面；所述的第二液體流道由第二環(huán)形道和與第二環(huán)形道相通的進(jìn)液流道及出液流道構(gòu)成，三個(gè)以上的出液流道沿盤體軸向分布，該出液流道的流道出口位于盤體的上端面。本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)緊湊、體積小的特點(diǎn)，有效減少光掩模清洗機(jī)處理艙的體積。