透明導(dǎo)電體的加工方法、加工裝置及透明導(dǎo)電體和觸控屏

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010754897.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111863348A 公開(kāi)（公告）日 2020-10-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN111863348A 申請(qǐng)公布日 2020-10-30
分類號(hào) H01B13/00;H01B13/30;H01B5/14;G06F3/041 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 蘇偉;葉宗和;王海峰 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 淄博松柏電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市博銳專利事務(wù)所 代理人 鄭耀敏
地址 255000 山東省淄博市高新區(qū)青龍山路9009號(hào)儀器儀表產(chǎn)業(yè)園1號(hào)樓A座一層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種透明導(dǎo)電體的加工方法，提供透明導(dǎo)電體，所述透明導(dǎo)電體包括透明基板和設(shè)于所述透明基板上的感光導(dǎo)電層，對(duì)所述透明導(dǎo)電體進(jìn)行曝光處理，對(duì)經(jīng)曝光處理后的透明導(dǎo)電體依次進(jìn)行如下步驟，S1：將透明導(dǎo)電體完全浸泡于藥水中；S2：對(duì)浸泡后的透明導(dǎo)電體進(jìn)行清洗；S3：對(duì)清洗后的透明導(dǎo)電體進(jìn)行吹干；通過(guò)藥水浸泡的方式對(duì)透明導(dǎo)電體進(jìn)行表面處理，降低了透明導(dǎo)電體制備過(guò)程中其表面過(guò)度顯影或者過(guò)度蝕刻而導(dǎo)致顯影或蝕刻不均勻的風(fēng)險(xiǎn)，利于產(chǎn)品良率的提升。