基材鍍膜系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010457233.X 申請日 -
公開（公告）號 CN113718228A 公開（公告）日 2021-11-30
申請公布號 CN113718228A 申請公布日 2021-11-30
分類號 C23C16/44（2006.01）I;C23C16/455（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 來華杭;俞峰;魯天豪;婁國明;周海龍 申請（專利權(quán)）人 浙江上方電子裝備有限公司
代理機構(gòu) 杭州合信專利代理事務所（普通合伙） 代理人 沈自軍
地址 312366浙江省紹興市濱海新城暢和路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種基材鍍膜系統(tǒng)，包括供氣機構(gòu)、反應爐以及抽氣機構(gòu)，所述反應爐包括第一爐體，以及位于所述第一爐體內(nèi)的第二爐體，所述第一爐體與所述第二爐體之間為中間腔，所述第一爐體開設(shè)有排氣口，所述第二爐體具有進氣口與出氣口；所述供氣機構(gòu)通過工藝氣路與所述進氣口相連通；所述抽氣機構(gòu)通過抽氣管與所述排氣口相連通，所述第二爐體連接有出氣管，所述出氣管的一端與所述出氣口相連通，另一端穿過排氣口并延伸至所述抽氣管，且所述出氣管與所述抽氣管之間呈間隙配合，該間隙開放于所述中間腔，該方案相對于現(xiàn)有技術(shù)，抽氣機構(gòu)將第二爐體內(nèi)的工藝氣體抽出時，能夠避免工藝氣體對中間腔污染。