一種單透鏡型檢測晶片基底二維形貌和溫度的裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201410693963.4 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN105698698B | 公開（公告）日 | 2020-01-21 |
| 申請公布號 | CN105698698B | 申請公布日 | 2020-01-21 |
| 分類號 | G01B11/24;G01K11/00 | 分類 | 測量；測試; |
| 發(fā)明人 | 劉健鵬;馬鐵中;張立芳;桑云剛;焦宏達(dá) | 申請（專利權(quán)）人 | 南昌昂坤半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京華沛德權(quán)律師事務(wù)所 | 代理人 | 劉杰 |
| 地址 | 102206 北京市昌平區(qū)昌平路97號新元科技園B座503室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種單透鏡型檢測晶片基底二維形貌和溫度的裝置，屬于半導(dǎo)體材料無損檢測技術(shù)領(lǐng)域。該裝置在光束入射至晶片基底之前，將透鏡設(shè)置于分光平片之后，而在形成第二種反射光束之后，將透鏡設(shè)置于分光平片之前，這樣，只需要應(yīng)用一個(gè)透鏡即可，無需選用兩個(gè)透鏡，或者，在選用激光器和探測器時(shí)，無需它們自身集成有透鏡，使得檢測晶片基底二維形貌的裝置的成本降低。 |
