一種雙軸晶體主軸方向光學(xué)均勻性的測試裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921741892.5 申請日 -
公開(公告)號 CN211086081U 公開(公告)日 2020-07-24
申請公布號 CN211086081U 申請公布日 2020-07-24
分類號 G01N21/45(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 吳文淵;何小玲;張昌龍;盧福華;王金亮;周海濤;李東平;覃世杰;左艷彬;宋旭東 申請(專利權(quán))人 桂林百銳光電技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 桂林市持衡專利商標事務(wù)所有限公司 代理人 唐智芳
地址 541004廣西壯族自治區(qū)桂林市七星區(qū)高新區(qū)鐵山工業(yè)園鐵山路20號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種雙軸晶體主軸方向光學(xué)均勻性的測試裝置。所述的測試裝置包括沿光軸方向依次設(shè)置的光源、聚光透鏡、準直透鏡、起偏器、相位補償器、檢偏器、成像鏡頭和相機,待測晶體置于相位補償器和檢偏器之間,所述的相位補償器由兩塊光楔構(gòu)成,通過調(diào)節(jié)兩塊光楔的相對位置來調(diào)節(jié)相位延遲量,其中所述光楔的材質(zhì)為成分與待測晶體相同且光學(xué)均勻性好的晶體。本實用新型所述裝置結(jié)構(gòu)簡單、成本低廉、便于維護且適合推廣使用;采用本實用新型所述裝置對晶體光學(xué)均勻進行測試時,無需反復(fù)測試背景干擾及不同偏振態(tài)激光通過晶體形成干涉圖,受環(huán)境影響小,測試效率高、適合批量化的生產(chǎn)檢測。??