一種雙軸晶體主軸方向光學(xué)均勻性的測(cè)試裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921741892.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN211086081U | 公開（公告）日 | 2020-07-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211086081U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-07-24 |
| 分類號(hào) | G01N21/45(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 吳文淵;何小玲;張昌龍;盧福華;王金亮;周海濤;李東平;覃世杰;左艷彬;宋旭東 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 桂林百銳光電技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 桂林市持衡專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 唐智芳 |
| 地址 | 541004廣西壯族自治區(qū)桂林市七星區(qū)高新區(qū)鐵山工業(yè)園鐵山路20號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種雙軸晶體主軸方向光學(xué)均勻性的測(cè)試裝置。所述的測(cè)試裝置包括沿光軸方向依次設(shè)置的光源、聚光透鏡、準(zhǔn)直透鏡、起偏器、相位補(bǔ)償器、檢偏器、成像鏡頭和相機(jī)，待測(cè)晶體置于相位補(bǔ)償器和檢偏器之間，所述的相位補(bǔ)償器由兩塊光楔構(gòu)成，通過調(diào)節(jié)兩塊光楔的相對(duì)位置來調(diào)節(jié)相位延遲量，其中所述光楔的材質(zhì)為成分與待測(cè)晶體相同且光學(xué)均勻性好的晶體。本實(shí)用新型所述裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低廉、便于維護(hù)且適合推廣使用；采用本實(shí)用新型所述裝置對(duì)晶體光學(xué)均勻進(jìn)行測(cè)試時(shí)，無需反復(fù)測(cè)試背景干擾及不同偏振態(tài)激光通過晶體形成干涉圖，受環(huán)境影響小，測(cè)試效率高、適合批量化的生產(chǎn)檢測(cè)。?? |
