測量薄膜光學常數的方法、系統(tǒng)、計算設備和存儲介質

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111130599.7 申請日 -
公開（公告）號 CN113884445A 公開（公告）日 2022-01-04
申請公布號 CN113884445A 申請公布日 2022-01-04
分類號 G01N21/25（2006.01）I;G06N3/04（2006.01）I;G06N3/08（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 范靈杰;陳昂;石磊;殷?，|;李同宇;李政紅;盧國鵬;金鴻銘 申請（專利權）人 上海復享光學股份有限公司
代理機構 北京市金杜律師事務所 代理人 馬明月
地址 200433上海市楊浦區(qū)國定東路200號4號樓412-1室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開涉及一種用于測量薄膜光學常數的方法、系統(tǒng)、計算設備和存儲介質，該方法包括：獲取光源所發(fā)出的多個波長的入射光的光源光譜數據；獲取關于待測薄膜的出射光譜數據，出射光譜數據是利用所述入射光對包括多層的薄膜層的待測薄膜進行測量而生成的；基于所述光源光譜數據和所述出射光譜數據，計算實測光譜數據，所述實測光譜數據至少指示所述待測薄膜在入射光的多個波長下的反射率或透射率；將光源光譜數據輸入用于仿真待測薄膜中的光的傳播特性的薄膜網絡模型，以便薄膜網絡模型所輸出的關于待測薄膜的模擬光譜數據接近所述實測光譜數據；以及基于所述薄膜網絡模型的參數，確定所述待測薄膜的折射率和薄膜層的薄膜主體的厚度中的至少一個。本公開能夠快速實現(xiàn)多層薄膜的光學參數的量測。