測(cè)量薄膜光學(xué)常數(shù)的方法、系統(tǒng)、計(jì)算設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110225675.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN112964651A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-06-15 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112964651A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-15 |
分類號(hào) | G01N21/25(2006.01)I;G01N21/45(2006.01)I;G01N21/47(2006.01)I;G01N21/59(2006.01)I;G06F17/15(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量;測(cè)試; |
發(fā)明人 | 范靈杰;陳昂;石磊;李同宇;殷?,| | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海復(fù)享光學(xué)股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京市金杜律師事務(wù)所 | 代理人 | 黃倩 |
地址 | 200433上海市楊浦區(qū)國(guó)定東路200號(hào)4號(hào)樓412-1室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本公開(kāi)涉及一種用于測(cè)量薄膜光學(xué)常數(shù)的方法、系統(tǒng)、計(jì)算設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì),該方法包括:獲取關(guān)于待測(cè)對(duì)象的第一光譜數(shù)據(jù),第一光譜數(shù)據(jù)至少指示待測(cè)對(duì)象在入射光的多個(gè)波長(zhǎng)下、對(duì)應(yīng)于多個(gè)測(cè)量角度的反射率;基于第一光譜數(shù)據(jù),提取預(yù)定波長(zhǎng)下的第一光譜數(shù)據(jù),預(yù)定波長(zhǎng)下的第一光譜數(shù)據(jù)指示待測(cè)對(duì)象在預(yù)定波長(zhǎng)下、對(duì)應(yīng)于多個(gè)測(cè)量角度的反射率;確定預(yù)定波長(zhǎng)下的第一光譜數(shù)據(jù)中的最大反射率和最小反射率、第一測(cè)量角度和第二測(cè)量角度;以及基于最大反射率、最小反射率、第一測(cè)量角度和第二測(cè)量角度,確定待測(cè)薄膜在預(yù)定波長(zhǎng)下的折射率。本公開(kāi)能夠?qū)崿F(xiàn)無(wú)需提前假設(shè)薄膜光學(xué)常數(shù)滿足的模型,以及準(zhǔn)確測(cè)量薄膜的光學(xué)常數(shù)。 |
