一種屏蔽柵溝槽式金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010757457.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN111969059A | 公開(kāi)(公告)日 | 2020-11-20 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN111969059A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-11-20 |
分類號(hào) | H01L29/78;H01L21/336;H01L29/06;H01L29/423 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 原小明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 南京江智科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海申匯專利代理有限公司 | 代理人 | 南京江智科技有限公司 |
地址 | 210000 江蘇省南京市江北新區(qū)惠達(dá)路6號(hào)北斗大廈9樓902室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種改進(jìn)的包含多個(gè)溝槽柵的溝槽式半導(dǎo)體功率器件,每個(gè)溝槽柵均包括一對(duì)分裂柵電極和一個(gè)屏蔽柵電極,在相鄰溝槽柵之間形成一個(gè)氧化層電荷平衡區(qū),并在溝槽底部形成結(jié)電荷平衡區(qū)。所述溝槽式半導(dǎo)體功率器件還進(jìn)一步包括一個(gè)超級(jí)結(jié)結(jié)構(gòu),所述超級(jí)結(jié)結(jié)構(gòu)包括多個(gè)位于襯底之上的、交替排列的P區(qū)和N區(qū),在氧化層電荷平衡區(qū)下方形成一個(gè)結(jié)電荷平衡區(qū),本發(fā)明的結(jié)構(gòu)可以有效提高擊穿電壓、降低導(dǎo)通電阻。 |
