一種雙晶振片晶控探頭

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120611551.7 申請日 -
公開（公告）號 CN215050671U 公開（公告）日 2021-12-07
申請公布號 CN215050671U 申請公布日 2021-12-07
分類號 C23C14/54（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 戰(zhàn)永剛;陳合金;戰(zhàn)捷;馮紅濤;尹強 申請（專利權）人 深圳市三束鍍膜技術有限公司
代理機構 深圳市中科創(chuàng)為專利代理有限公司 代理人 劉曰瑩
地址 518000廣東省深圳市龍華區(qū)福城街道福民社區(qū)核電工業(yè)園5號101
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種雙晶振片晶控探頭包括：安裝部，包括一第一安裝板和兩第二安裝板，兩所述第二安裝板分別固定于所述第一安裝板的相對的兩側；兩晶振片組件，并排安裝固定于所述第一安裝板上；驅動組件，包括一驅動電機，所述驅動電機安裝于一固定板上，所述固定板與所述第一安裝板固定連接；擋板組件，包括：擋板、兩第一連桿和兩第二連桿，每一所述第一連桿一端鉸接連接于所述擋板上，另一端連接至所述驅動組件的動力輸出軸上；每一所述第二連桿一端鉸接連接于所述擋板上，另一端鉸接連接于一所述第二安裝板上；所述第一連桿和所述第二連桿平行設置。本實用新型結構合理，造價低，杜絕了氣動元件放在真空室里存在漏氣的安全隱患。