基片處理設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010990278.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114203618A 公開（公告）日 2022-03-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN114203618A 申請(qǐng)公布日 2022-03-18
分類號(hào) H01L21/687（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 陳樹青 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海新微技術(shù)研發(fā)中心有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京知元同創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 劉元霞
地址 201800上海市嘉定區(qū)城北路235號(hào)1號(hào)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N基片處理設(shè)備，包括：腔體，其由外殼和蓋子圍合而成；支架，其位于所述腔體內(nèi)，對(duì)基片進(jìn)行支撐；升降機(jī)構(gòu)，其進(jìn)行升降運(yùn)動(dòng)，以驅(qū)動(dòng)所述支架在所述腔體內(nèi)進(jìn)行升降；控制信號(hào)發(fā)生器，其生成用于控制所述升降機(jī)構(gòu)進(jìn)行升降運(yùn)動(dòng)的控制信號(hào)；以及基片探測(cè)器，其探測(cè)所述基片在所述支架上是否處于水平狀態(tài)，在所述基片探測(cè)器探測(cè)出所述基片在所述支架上處于相對(duì)于水平方向傾斜的狀態(tài)時(shí)，所述升降機(jī)構(gòu)停止進(jìn)行所述升降運(yùn)動(dòng)。