一種全息光柵模板及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910785400.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN110456435B 公開(kāi)（公告）日 2021-10-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN110456435B 申請(qǐng)公布日 2021-10-01
分類號(hào) G02B5/18（2006.01）I;G02B5/32（2006.01）I;G03F7/00（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 楊渝書(shū);伍強(qiáng);李艷麗 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海集成電路研發(fā)中心有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 曹廷廷
地址 201210上海市浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)高斯路497號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種全息光柵模板及其制備方法，全息光柵模板的制備方法包括：提供一襯底，襯底上依次形成有硬掩模層和圖形化的光刻膠層，光刻膠層具有圖形；以圖形化的光刻膠層為掩模，刻蝕硬掩模層，將圖形復(fù)制至硬掩模層中，以形成圖形化的硬掩模層；對(duì)襯底執(zhí)行離子注入工藝，在離子注入?yún)^(qū)得到光柵模板圖形區(qū)；刻蝕硬掩模層并暴露出襯底；刻蝕襯底的非離子注入?yún)^(qū)，以暴露出光柵模板圖形區(qū)，并形成全息光柵模板。通過(guò)離子注入工藝得到所需形狀的光柵結(jié)構(gòu)區(qū)，經(jīng)過(guò)高刻蝕選擇比刻蝕保留光柵結(jié)構(gòu)區(qū)，從而得到全息光柵模板，工藝難度較低，工藝可行性高；通過(guò)在襯底上直接形成光柵結(jié)構(gòu)區(qū)，避免了光刻工藝的轉(zhuǎn)版步驟，減少了工藝步驟，降低了生產(chǎn)成本。