一種光掩模板保護裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010543138.1 申請日 -
公開（公告）號 CN111736425B 公開（公告）日 2021-08-31
申請公布號 CN111736425B 申請公布日 2021-08-31
分類號 G03F1/82（2012.01）I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 顧崢;伍強;李艷麗 申請（專利權）人 上海集成電路研發(fā)中心有限公司
代理機構 上海天辰知識產(chǎn)權代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 吳世華;張磊
地址 201210上海市浦東新區(qū)張江高斯路497號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種光掩模板保護裝置，包括：一對反射鏡，所述反射鏡相對平行設置；激光管，設于其中一個所述反射鏡的一端，用于以一定的傾斜角度，向對面的另一個所述反射鏡發(fā)射激光束；其中，利用所述激光束在兩個所述反射鏡之間來回反射，在光掩模板上形成激光阻擋網(wǎng)，使污染顆粒在受到激光束沖擊后發(fā)生移動，并從所述光掩模板的關鍵區(qū)域上移除。本發(fā)明能有效防止顆粒污染光掩模板，減少有機物污染，避免缺陷印刷，并能提高成品率，提高光刻的工作效率。