微型復(fù)雜件的多面檢測方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710859950.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN107860310B | 公開(公告)日 | 2020-04-21 |
申請公布號 | CN107860310B | 申請公布日 | 2020-04-21 |
分類號 | G01B11/00 | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 張柯;高萬順;張偉明 | 申請(專利權(quán))人 | 廣東創(chuàng)世紀(jì)智能裝備集團(tuán)股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 東莞華晶粉末冶金有限公司;廣東勁勝智能集團(tuán)股份有限公司 |
地址 | 523000 廣東省東莞市東城街道牛山外經(jīng)工業(yè)園偉豐路2號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種微型復(fù)雜件的多面檢測方法,其包括以下步驟:將微型復(fù)雜件置于二次元測量平臺上;測量微型復(fù)雜件于二次元測量平臺的檢測面上的尺寸;對于微型復(fù)雜件的每一側(cè)面,將一個拼接長方體置于微型復(fù)雜件的一側(cè)面旁并使拼接長方體與微型復(fù)雜件相接觸;測量拼接長方體對微型復(fù)雜件的該側(cè)面的反射投影于二次元測量平臺的檢測面上的尺寸;將兩個拼接長方體對稱并排置于二次元測量平臺上,將微型復(fù)雜件置于其中一個拼接長方體上,測量另一個拼接長方體對微型復(fù)雜件的底面的反射投影于二次元測量平臺的檢測面上的尺寸。上述微型復(fù)雜件的多面檢測方法能夠精確測量微型復(fù)雜件的各個面的微結(jié)構(gòu),提升了測量效率。 |
