一種用于高溫擴(kuò)散爐的噴淋管及其應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201510416519.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN105070783B | 公開(公告)日 | 2018-08-24 |
申請公布號 | CN105070783B | 申請公布日 | 2018-08-24 |
分類號 | H01L31/18 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 孫海平;李靜;李洪波;張斌 | 申請(專利權(quán))人 | 奧特斯維能源(太倉)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 柏尚春 |
地址 | 215434 江蘇省蘇州市太倉市太倉港港口開發(fā)區(qū)平江路88號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種氣體擴(kuò)散噴淋管,所述氣體擴(kuò)散噴淋管的一端為進(jìn)氣口,所述噴淋管的另一端為密封端,所述噴淋管上設(shè)有噴淋口,所述噴淋口與彎曲噴嘴連通,所述彎曲噴嘴上設(shè)有彎曲部和出氣口,所述出氣口的內(nèi)徑大于噴淋口的直徑,所述出氣口的出氣方向與噴淋管的進(jìn)氣口的進(jìn)氣方向一致。本發(fā)明還公開利用上述氣體擴(kuò)散噴淋管的高溫擴(kuò)散爐,改變了攜源氮?dú)鈬娏艿姆较?,將磷源通過噴淋管直接導(dǎo)入到擴(kuò)散爐的不同位置,攜源氮?dú)饪梢詮男滦蛧娏芄芷椒€(wěn)流出而不會造成紊流,爐管中的硅片不再因位置的限制而無法與磷源進(jìn)行充分反應(yīng)。 |
